三温区PECVD-用于金属粉末材料的镀膜

2024/10/30

案例简介

客户名称：西安某金属材料研究院

设备名称：三温区PECVD

工作温度：≤1100℃

设备用途：金属粉末材料的化学气相沉积法镀膜。

设备介绍

这款PECVD设备由管式炉、真空系统、气体供应系统、射频电源系统等组成。该PECVD通过射频电源将石英真空室中的气体改变为离子状态，等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜, 该系统主要用于金属粉末镀膜中。

 三温区PECVD设备客户现场实拍图