2025/09/18 作者：河南鸿炉机械
刚玉管更适合高温、高洁净度及抗腐蚀的CVD工艺，石英管则更适合对光学性能要求高且需耐热震的场景。以下是具体分析：
一、刚玉管在CVD工艺中的适用性
耐高温性能：刚玉管的核心材质是纯度高达99.9%的氧化铝（Al₂O₃），经1800℃高温烧结后形成致密结构，可长期耐受1600℃高温，短期抗1700℃热冲击。这一特性使其在需要极高温度的CVD工艺中具有显著优势，例如金属材料的扩展焊接或真空热处理。
抗腐蚀能力：刚玉管对氢氟酸以外的99%酸碱液、熔融金属及卤素气体具有免疫性，适用于涉及腐蚀性气体的CVD工艺，如半导体制造中的蚀刻环节。
洁净度优势：刚玉管零金属离子析出，满足半导体级洁净需求，可避免金属污染对薄膜质量的负面影响，特别适用于高纯度材料沉积场景。
二、石英管在CVD工艺中的适用性
光学性能优势：石英管由二氧化硅构成，具有从紫外到红外的宽光谱透过能力，且紫外透过率优于普通石英玻璃。这一特性使其在需要光学监测的CVD工艺中具有不可替代性，例如光学薄膜沉积或光电器件制造。
耐热震性：石英管热膨胀系数小，仅为陶瓷的1/6和普通玻璃的1/20，可承受快速温度变化而不破裂，适用于需要频繁升降温的CVD工艺。
化学稳定性：石英管在高温下与大多数气体不发生反应，可保持工艺环境的稳定性，特别适用于对气体纯度要求高的CVD工艺。
三、刚玉管与石英管的对比选择
温度需求：若工艺温度超过1600℃或需短期承受1700℃热冲击，刚玉管是唯一选择；若温度在1600℃以下，石英管可满足需求。
腐蚀性环境：涉及卤素气体或熔融金属的工艺必须选用刚玉管；普通气体环境则两者均可。
光学性能要求：需光学监测或制备光学薄膜的工艺必须选用石英管；无光学需求的工艺可优先考虑刚玉管。
精密沉积要求：精密光学、半导体或低温CVD，优先选择高纯石英，因其纯度高、热膨胀系数低，适合精密沉积。
洁净度标准：半导体制造等对金属离子污染零容忍的场景需选用刚玉管；普通场景石英管即可满足。
因此，CVD炉管选择刚玉还是石英取决于你的具体CVD工艺需求（温度、腐蚀性、纯度要求等）。
