高温氧化炉的炉型分类及选择

2025/12/23       作者：河南鸿炉机械

高温氧化炉的炉型多样，可根据结构形式和工艺应用两个维度进行分类，每种类型均具备独特优势以适应不同工艺需求：

一、按结构形式分类

1. 箱式炉/马弗炉

特点：最通用的炉型，炉膛为箱形结构，采用电阻加热，最高温度可达1700°C

优势：保温性能优异，适合大多数实验室及小规模生产场景，尤其适用于小工件和小样品的加热、烧结等工艺。

应用：高校实验室、科研机构及小型企业，用于材料热处理、陶瓷烧结、灰化等。

高温箱式炉 点击查看详情

2. 管式炉

特点：炉膛为圆柱形管状结构，以石英或刚玉炉管为核心加热区域，工件置于炉管内，两端采用密封法兰设计，可预抽真空并通入多种保护气体。

优势：温度均匀性高，适合小尺寸工件的高精度处理，且能实现复杂气氛控制（如氧化、还原、惰性气体保护等）。

应用：适用于小样品处理、需要精确气氛控制的工艺，常用于材料烧结、化学气相沉积(CVD)、热氧化等。

可分为水平管式炉和立式管式炉。

大管径石英管式炉 点击查看详情

3. 井式炉

特点：炉膛竖直安置，炉门开在炉子上方，支持垂直方向取放样品，便于自动化操作（如配合机械手）。

优势：空间利用率高，适合长杆状或大型工件的垂直处理，且炉膛结构有利于温度均匀性控制。

应用：长轴类零件热处理、大型陶瓷部件烧结、金属材料垂直氧化等。

4. 真空炉

箱式或管式结构，配备真空系统。

可在高真空或惰性气氛下工作。

适用于航空航天、医疗材料等对氧化敏感的材料处理。

立式真空炉 点击查看详情

二、按工艺应用分类

1. 热氧化炉(TO)

用于VOCs废气处理，通过高温氧化分解有机物。

工作温度：600-850°C。

结构：圆筒形或方形，内衬陶瓷纤维或耐火砖。

2. 蓄热式氧化炉(RTO)

用于VOCs处理，热回收效率高达99%。

工作温度：815-1200°C。

采用陶瓷介质蓄热室回收热能。

3. 碳化硅高温氧化炉

专用于SiC MOSFET/IGBT器件的栅氧生长。

温度范围：800-1500°C。

采用高纯碳化硅炉管和双层真空密封结构。

4. 集成电路高温氧化炉

用于硅片热氧化工艺(干氧/湿氧)。

温度范围：800-1200°C。

可精确控制氧化层厚度和质量。

三、其他分类维度

按加热方式：电阻加热炉、感应加热炉。

按气氛控制：空气气氛炉、惰性气体炉、真空炉。

按温度等级：中高温炉(800-1200°C)、超高温炉(>1200°C)。

选择建议：炉型选择应根据主要工艺目标决定——通用加热选箱式炉；高纯度小样品选管式炉；防氧化处理选真空炉；VOCs处理选TO/RTO；半导体工艺则需专用立式或碳化硅氧化炉。